Bot Pencuci Wafer Kuarza
Bot pembersih wafer kuarza ialah peranti yang digunakan untuk pembersihan wafer dalam proses pembuatan semikonduktor.
Bahan: 99.99% kuarza
Description/kawalan
Ciri-ciri
- Rintangan suhu tinggi
- Rintangan kakisan
- Ketahanan pakai
- Mudah dibersihkan
Kegunaan: buang bahan cemar permukaan
Memastikan kualiti pembuatan cip semikonduktor.
Permohonan
1. Pra-Pembersihan Difusi
Digunakan untuk mengangkut wafer melalui bangku basah atau langkah pembersihan rendaman (cth, pembersihan RCA) untuk membuang bahan cemar organik, logam dan zarah sebelum-proses resapan atau pengoksidaan suhu tinggi.
2. Pasca-Pembersihan CMP (Chemical Mechanical Planarization).
Memegang wafer semasa pembersihan selepas-menggilap untuk menghapuskan sisa buburan dan kecacatan permukaan, memastikan kerataan optimum untuk langkah litografi seterusnya.
3. Depan-Hujung-Fabrikasi-Barisan (FEOL)
Digunakan dalam peringkat pembersihan FEOL kritikal di mana permukaan ultra-bersih diperlukan untuk pertumbuhan oksida gerbang, pemendapan epitaxial atau implantasi ion.
4. Belakang-Tamat-pada-Barisan (BEOL) Pemprosesan
Menyokong wafer semasa pembersihan pasca-etch atau post-untuk membuang photoresist, hasil sampingan goresan dan kekotoran logam selepas pembentukan saling sambung.
5. Pembungkusan Termaju
Memudahkan-pembersihan tahap wafer sebelum memotong dadu atau mengikat dalam pembungkusan IC 2.5D/3D, memastikan antara muka bebas-pencemaran untuk sambungan yang boleh dipercayai.
6. Pembuatan Photovoltaic
Digunakan dalam pengeluaran sel solar untuk membersihkan substrat silikon, meningkatkan kualiti permukaan untuk penyerapan cahaya yang lebih baik dan kecekapan penukaran tenaga.
Hartanah
|
Sifat Fizikal |
Nilai |
|
Kesucian |
＞99.99% |
|
Ketumpatan |
2.2g/sm3 |
|
Ketelusan |
＞90% |
|
Kekerasan Mohs |
5.5--6.5 |
|
Titik Ubah Bentuk |
1280 darjah |
|
Titik Lembut |
1750 darjah |
|
Titik Penyepuhlindapan |
1250 darjah |
|
Haba Tertentu (20 - 350 darjah ) |
670J/kg. ijazah |
|
Kekonduksian Terma (20 darjah ) |
1.4W/m. ijazah |
|
Kekonduksian Haba (w/mk, 1000 darjah ) |
1.0-1.2 |
|
Indeks Biasan |
1.4585 |
|
Pekali Pengembangan Terma |
5.510 -7cm/cm. ijazah |
|
Suhu kerja - panas |
1750--2050 darjah |
|
Jangka pendek - Suhu Perkhidmatan |
1450 darjah |
|
Suhu Perkhidmatan jangka - panjang |
1100 darjah |
|
Sifat Kimia |
Nilai |
|
Tahan asid |
Asid Kuat (kecuali HF), Alkali kuat, larutan organik |
|
Suhu tinggi Tahan kakisan |
Cemerlang |
|
Kandungan Kekotoran Logam |
＜5 ppm |
|
Sifat Elektrik |
Nilai |
|
Kerintangan |
7107Ω.cm |
|
Kekuatan Penebat |
250~400Kv/sm |
|
Pemalar Dielektrik |
3.7~3.9 |
|
Pekali Serapan Dielektrik |
＜410-4 |
|
Pekali Kehilangan Dielektrik |
＜110-4 |
|
Sifat Mekanikal |
Nilai |
|
Kekuatan Mampatan |
1100MPa |
|
Kekuatan Lentur |
67MPa |
|
Kekuatan Tegangan |
48MPa |
|
Nisbah Poisson |
0.14~0.17 |
|
Modulus Muda |
72000MPa |
|
Modulus Ricih |
31000MPa |
Kaedah pembersihan
Pembersihan rendaman:
Letakkan wafer dalam bot pembersih, kemudian rendam bot pembersih dalam cecair pembersih, dan tingkatkan sentuhan antara cecair pembersih dan permukaan wafer dengan mengangkat bot wafer untuk meningkatkan kesan pembersihan.
Pembersihan semburan:
Letakkan bot pembersih tegak di dalam ruang semburan, dan gunakan muncung untuk menyembur cecair pembersih pada permukaan wafer untuk membuang bahan cemar. ;
Kepentingan membersihkan bot:
- Pastikan kebersihan wafer: Permukaan wafer yang bersih adalah penting untuk kualiti pembuatan cip semikonduktor, dan bot pembersihan memainkan peranan penting dalam proses pembersihan.
- Pastikan kebolehpercayaan cip semikonduktor: Pastikan kebolehpercayaan cip dan kurangkan kecacatan produk dengan menyingkirkan bahan cemar permukaan.
- Meningkatkan hasil cip semikonduktor: Meningkatkan kebersihan wafer, dengan itu meningkatkan hasil cip semikonduktor.
Cool tags: bot pembersihan wafer kuarza, pengeluar bot pembersih wafer kuarza China, pembekal, kilang
Hantar pertanyaan
Anda mungkin juga berminat
